|
eaDonNTU, Donetsk >
Автомобильно-дорожный институт >
Факультет "Транспортные и информационные технологии" >
Кафедра "Общенаучные дисциплины" >
Публікації кафедри "Загальнонаукові дисципліни" >
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://ea.donntu.ru/handle/123456789/25019
|
| Название: | Вплив термічних змін на дислокаційну структуру монокристалів LiF. |
| Авторы: | Нечволод, М.К.
Микита, Р.В.
Москаль, Д.С.
Уколов, О.І.
Калимбет, А.З. |
| Ключевые слова: | LiF
LiF
дислокація
distribution
відпал
annealing
термоциклічна обробка
thermal-cycle treatment |
| Дата публикации: | 2011 |
| Издатель: | Збірник науковіх праць фізико-математичного факультету СДПУ. [За матеріалами Всеукраїнської науково-практичної конференції "Актуальні питання науки і освіти"]. - Слов'янськ: СДПУ, 2011 - № 1 – 212 с. С 88 – 95 |
| Библиографическое описание: | Нечволод М.К. Микита Р.В. Москаль Д.С. Уколов О.І. Калимбет А.З. Вплив термічних змін на дислокаційну структуру монокристалів LiF // Збірник науковіх праць фізико-математичного факультету СДПУ. [За матеріалами Всеукраїнської науково-практичної конференції "Актуальні питання науки і освіти"]. - Слов'янськ: СДПУ, 2011 - № 1 – 212 с. |
| Серия/номер: | УДК;539.3 |
| Аннотация: | Встановлено аналітичну залежність щільності дислокацій у монокристалах LiF , як функція часу відпалу, що має експоненціальний вигляд. Попередній відпал зразків LiF приводить до збільшення мінімального числа термоциклів, при якому в кристалах спостерігається генерація нових одиничних дислокацій. Зазначено можливі фізичні механізми явищ, які спостерігаються під час відпалу й наступній термоциклічній обробці. |
| Описание: | Analytical dependence of closeness of distributions is set in the single-crystals of LiF, as a function of time of annealing that has an exponential kind. The previous annealing of standards of LiF results in the increase of minimum number of thermal cycle, at that there is a generation of new single distributions in crystals. The possible physical mechanisms of the phenomena, that is observed during annealing to next thermal-cycle treatment, are marked. |
| URI: | http://ea.donntu.org/handle/123456789/25019 |
| Располагается в коллекциях: | Публікації кафедри "Загальнонаукові дисципліни"
|
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.
|
